暫時性口內(nèi)骨支抗裝置（TISAD / TAD）的穩(wěn)定性受很多因素的影響，例如口腔衛(wèi)生，口腔疾病，吸煙，粘膜狀況，微種植釘植入位置，加力方法，以及TISAD / TAD的類型等等。
近年來，正畸微種植釘（orthodontic miniscrew，OM）得到了極大的普及；在許多困難的病例中，OM都能提供可靠的支抗。雖然，OM對患者的依從性、牙弓條件要求均很小，但其穩(wěn)定性并不一致，報道顯示其成功率在59.2–100.0%之間不等。
1、在顴牙槽嵴區(qū)域植入正畸微支抗釘穿入上頜竇的影響
微支抗釘被廣泛應用于可預測的牙齒移動，但支抗釘?shù)闹踩胪芟抻诮馄式Y構。這一研究的目的是調(diào)查微支抗釘致上頜竇穿孔的發(fā)生率及穿孔深度與上頜竇組織之間的關系。
方法：收集32名接受顴牙槽嵴區(qū)域植入微支抗釘?shù)幕颊叩臄?shù)據(jù)。通過臨床回顧性分析，確定了支抗釘植入的成功率。獲取支抗釘植入后即刻和移除之前即刻b的CBCT影像，并比較穿孔的發(fā)生率、穿孔深度、上頜竇外形。
結果：微支抗釘植入的總成功率為96.7%，而穿入上頜竇的成功率為78.3%。在穿入超過1毫米的人群中，粘膜增厚的發(fā)生率為88.2%，增厚的平均值為1.0毫米；然而，在穿入小于1毫米組的人群中，粘膜增厚的發(fā)生率為37.5%，平均增厚0.2毫米（P<0.05）。
結論：在顴牙槽嵴區(qū)域植入正畸微支抗釘穿入上頜竇的發(fā)生率可能很高。對于顴牙槽嵴區(qū)的微支抗釘植入，建議穿過雙側皮質(zhì)骨的植入穿孔深度在1mm之內(nèi)。
2、正畸微種植釘長度對其長期穩(wěn)定性的影響
下面這項研究通過前瞻性觀察TISAD / TAD的長度對其的長期穩(wěn)定性的影響。
方法：在拔牙病例（第一或第二前磨牙）中引入最大的支抗強度，以用于內(nèi)收下前牙。使用同一種TISAD / TAD：OrthoEasy Pin（Forestadent，Phorzheim，德國），長度為6或8mm。每名患者在隨機選擇的下頜象限（左側或右側）中接受6mm和8mm長的TISAD / TAD，所有的微種植釘都由同一個的正畸醫(yī)生照相同的方法植入。
結果：1.如果出現(xiàn)輕微的移動度，但TISAD / TAD仍可用作直接支抗，則仍然認為是成功的。換句話說，只有TISAD / TAD具有較大的動度，不能再作為支抗，或者由于NiTi彈簧的作用被拉松脫，則表示TISAD / TAD“喪失”。
2.總共54個TISAD / TAD中的40個能夠達到治療目標。詳細結果見Table 2。A組中，22枚（81.5％）微種植釘呈現(xiàn)長期穩(wěn)定性，而B組只有18個（66％）TISAD / TAD在整個治療過程中保持穩(wěn)定。這種差異有統(tǒng)計學意義（P = 0.0311）。所有植入的微種植釘?shù)目偝晒β适?4％。在一例（患者4）中，兩種長度的TISAD / TAD均失敗。
結論：在20-29歲女性的下頜骨中植入8毫米正畸微種植釘，植入2周后加力100到150克，比6毫米種植釘更穩(wěn)定。
3、微種植體植入的平均根尖區(qū)域研究及擁擠度的考慮
本研究目的為明確微種植釘植入的附著齦水平根尖間區(qū)域，以及探究牙列擁擠與可用空間的相關性。
方法：
A.全景片
如圖1：兩鄰牙根尖間垂線直至CEJ作為虛擬尺，直到找到兩鄰牙間距3mm處，記錄該點到CEJ的距離，選取較短的根長作為標準，該距離使用根長的百分比表示，100%表示該牙間不存在至少3mm的間隙。
根據(jù)該測量結果制作根尖間微種植釘植入圖，當值小于等于50%時認為是理想的植入?yún)^(qū)域；值在51%-75%區(qū)間內(nèi)認為是邊界區(qū)；當值大于等于76%則認為不宜植入。
B.電子模型
為評價牙弓擁擠度，使用專用掃描儀及軟件將模型計算機化，測量上下頜骨前牙段和后牙段的牙弓擁擠度（mm）。
結果：上頜中，除了雙側尖牙及側切牙間及中切牙間數(shù)值呈正態(tài)分布，其余根尖區(qū)值呈非正態(tài)分布；在下頜，除了切牙，其他均呈正態(tài)分布，所有擁擠數(shù)據(jù)均呈非正態(tài)分布。
結論：在開始矯正前，平均根尖距離圖能作為微種植釘?shù)闹踩胫改?，此外臨床醫(yī)生應考慮到擁擠量，若擁擠量大，則根尖區(qū)域與報道的平均值存在較大差異，因此仍推薦對每個患者進行射線檢查。
來源：浙一口腔正畸林軍
