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后牙修復--直接和間接修復(二)

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后牙修復--直接和間接修復(二)

接下來進行第一磨牙的預(yù)備。按照間接修復體牙體預(yù)備的原則,先降低薄弱牙尖的高度,內(nèi)線角圓滑化處理,軸壁形成向外展聚合度,并確保預(yù)備出瓷修復體的厚度空間(圖24~圖28)。預(yù)備體精修和拋光完成后,用聚乙烯硅橡膠進行印模制取(圖29)。



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圖示完成的全瓷高嵌體的解剖外形特征及光學特性與天然牙體組織的相似性(圖30)。

為了保證粘接后的抗折裂性,修復體的厚度必須大于1.5mm(圖31和圖32)。


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在粘接之前,必須徹底清潔預(yù)備體,高嵌體必須在不安放橡皮障的情況下進行試戴。當出現(xiàn)輕度適合性不良情況時,建議檢查鄰面接觸的松緊度,鄰接過緊會妨礙修復體的就位(圖33)。用咬合紙印記干擾修復體正確就位的區(qū)域。關(guān)鍵點是瓷嵌體的調(diào)改和拋光均需使用特殊的含金剛砂的陶瓷磨頭(圖34~圖36)。調(diào)改和拋光時應(yīng)避免使用金剛砂車針和高速機頭。


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修復體所有上釉的表面用稠體加成硅橡膠覆蓋保護以防止氫氟酸酸蝕時受損(圖37)。修復體組織面用氫氟酸酸蝕處理60秒(圖38),然后用流水沖洗(圖39)。注意酸蝕后表面的殘屑(圖40)需用水汽沖洗30秒去除(圖41)。表面干燥后涂布一層硅烷偶聯(lián)劑并保持60秒(圖42)。



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來源于口腔領(lǐng)航

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