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全口實(shí)戰(zhàn)技能基礎(chǔ):全口無牙頜解剖標(biāo)志及其識(shí)別

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一、無牙上下頜解剖標(biāo)志
(一)牙槽嵴(alveolar ridge )


牙列缺失后牙槽突逐漸吸收形成牙槽嵴 。是自然牙列賴以存在的基礎(chǔ)。其上覆蓋的黏膜表層為高度角化的鱗狀上皮,黏膜下層與骨膜緊密相連,能承擔(dān)較大的咀嚼壓力。

將口腔分為:口腔前庭、 口腔本部

(二)口腔前庭(oral vestibule)


位于牙槽嵴與唇、頰側(cè)黏膜之間,為一潛在的間隙。黏膜下為疏松的結(jié)締組織,全口義齒的唇、頰側(cè)基托在此區(qū)內(nèi),在不妨礙唇、頰活動(dòng)的情況下應(yīng)盡量伸展到黏膜反折皺襞,以保證基托邊緣的封閉。


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1、唇系帶(labial frenum):

位于口腔前庭內(nèi)相當(dāng)于原中切牙近中交界線的延長線上, 為一扇形或線形黏膜皺襞。是口輪匝肌在頜骨上的附著部。隨唇肌的運(yùn)動(dòng)有較大的活動(dòng)范圍。全口義齒唇側(cè)基托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡,以免妨礙系帶的運(yùn)動(dòng)而影響義齒固位。


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2、頰系帶(buccal frenum)

位于前磨牙牙根部,附著在牙槽嵴頂?shù)念a側(cè),呈扇形,數(shù)目不定。是類似唇系帶的黏膜皺襞。上下頜左右兩側(cè)均有頰系帶,其動(dòng)度比唇系帶小。

前弓區(qū):唇頰系帶之間為前弓區(qū),

后弓區(qū):頰系帶以后為后弓區(qū)。


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3、顴突(zygomatic  process)

位于后弓區(qū)內(nèi)相當(dāng)于左右兩側(cè)上頜第一磨牙的根部的骨突。此區(qū)覆蓋的粘膜較薄,與之相應(yīng)的基托邊緣應(yīng)做緩沖,否則會(huì)出現(xiàn)壓痛或使義齒以此為支點(diǎn)前后翹動(dòng)。


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4、上頜結(jié)節(jié) (maxillary tuberosity)

是上頜牙槽嵴兩側(cè)遠(yuǎn)端的圓形骨突,表面有粘膜覆蓋。頰側(cè)多有明顯的倒凹,與頰黏膜之間形成頰間隙(buccal space)。此區(qū)對(duì)上頜全口義齒的固位有重要意義,上頜義齒的頰側(cè)翼緣應(yīng)充滿在此間隙內(nèi)。

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5、頰側(cè)翼緣區(qū) (buccal flange area )

位于下頜后弓區(qū),在下頜頰系帶至咬肌下段前緣之間。當(dāng)下頜后部牙槽嵴吸收已平時(shí),該區(qū)又稱頰棚區(qū)(buccal shelf area)。此區(qū)面積較大,骨質(zhì)致密。義齒基托在此區(qū)內(nèi)可有較大范圍的伸展,可承受較大的牙合力。起支持作用,并有穩(wěn)定義齒的作用。


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6、遠(yuǎn)中頰角區(qū)(distobuccal angles area)

在下頜后弓區(qū)內(nèi),位于咬肌前緣、頰側(cè)翼緣區(qū)之后方。受咬肌前緣活動(dòng)的限制,義齒基托邊緣不能較多伸展,否則會(huì)引起疼痛,咬肌活動(dòng)時(shí)會(huì)使義齒上升松動(dòng)。


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(三)口腔本部


位于上下牙槽嵴之舌側(cè),上為腭頂,下為口底。

本區(qū)內(nèi)的解剖標(biāo)志有:

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1、切牙乳突(incisive papilla)

位于上頜腭中縫的前端,上中切牙之腭側(cè),為一梨形、卵圓形或不規(guī)則的軟組織突起。是上頜重要的、 穩(wěn)定的標(biāo)志。乳突下方為切牙孔,有鼻腭神經(jīng)和血管通過。覆蓋此區(qū)的義齒基托組織面需適當(dāng)緩沖,以免壓迫切牙乳突產(chǎn)生疼痛。


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它是排上頜中切牙的參考標(biāo)志:兩個(gè)上頜中切牙的交界線應(yīng)以切牙乳突為準(zhǔn);上頜中切牙唇面應(yīng)置于切牙乳突中點(diǎn)前8-10mm;上頜兩側(cè)尖牙牙尖頂?shù)倪B線應(yīng)通過切牙乳突。

2、腭皺(palatal rugae)

位于上頜腭側(cè)前部腭中縫的兩側(cè),為不規(guī)則的波浪形軟組織橫嵴。有輔助發(fā)音的作用。


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3、上頜硬區(qū)(hard area)

位于上腭中部的前份,骨組織呈嵴狀隆起,表面覆蓋的黏膜較薄,故受壓后易產(chǎn)生疼痛,覆蓋該區(qū)的基托組織面應(yīng)適當(dāng)緩沖,以防產(chǎn)生壓痛并可防止由此而產(chǎn)生的義齒左右翹動(dòng)或折裂。


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4、腭小凹(palatine fovea)      

位于上腭中縫后部的兩側(cè),軟硬腭連接處的稍后方。是口內(nèi)粘液腺導(dǎo)管的開口。多為并列的2個(gè),左右各1個(gè),上頜全口義齒的后緣應(yīng)在腭小凹后2mm。


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5、 顫動(dòng)線(vibrating line)     

位于軟腭與硬腭交界的部位,分前顫動(dòng)線和后顫動(dòng)線。前顫動(dòng)線在硬腭與軟腭的連接區(qū),約在翼上頜切跡與腭小凹的連線上。后顫動(dòng)線在軟腭腱膜和軟腭肌的連接區(qū)。

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前后顫動(dòng)線之間稱后堤區(qū)。此區(qū)寬約2-12mm,平均 8.2mm,有一定的彈性,上頜全口義齒組織面與此區(qū)相應(yīng)的部位可形成后堤,能起到邊緣封閉的作用。


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后堤區(qū)可分為三種類型:

第一類:腭穹隆較高,軟腭向下彎曲明顯,后堤區(qū)較窄,不利于固位。

第三類:腭穹隆較平坦,后堤區(qū)較寬,有利于固位。

第二類:腭部形態(tài)介于第一和第三類之間,亦有利于義齒固位。

6、腭穹隆(palatal vault)

呈拱形,分為高拱形、中等形及平坦形。由硬腭和軟腭組成,硬腭在前部。在硬腭前1/3 處覆蓋著高度角化的復(fù)層鱗狀上皮,其下有緊密的粘膜下層附著,可以承受咀嚼壓力。硬腭后2/3含有較多的脂肪和腺體,腭中縫區(qū)為上頜隆突。

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7、翼上頜切跡(pterygomaxillary notch)

在上頜結(jié)節(jié)之后,為蝶骨翼突與上頜結(jié)節(jié)后緣之間的骨間隙。表面有黏膜覆蓋,形成軟組織凹陷,為上頜全口義齒兩側(cè)后緣的界限。


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8、舌系帶(lingual frenum)

舌系帶位于口底的中線部,是連接口底與舌腹的黏膜皺襞,動(dòng)度較大。全口義齒舌側(cè)基托在此部位應(yīng)形成切跡,以免影響舌系帶的活動(dòng)。


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9、舌下腺(sublingual glands)

位于舌系帶的兩側(cè),左右各一,舌下腺區(qū)可隨下頜舌骨肌的運(yùn)動(dòng)上升或下降。故與此區(qū)相應(yīng)的義齒基托邊緣不應(yīng)過長,否則舌運(yùn)動(dòng)時(shí)易將下頜全口義齒推起。

10、下頜隆突(torus  mandibularis)

位于下頜兩側(cè)前磨牙根部舌側(cè)的骨性隆起。表面覆蓋的黏膜較薄,與之相應(yīng)的基托組織面應(yīng)適當(dāng)緩沖。過分突出的下頜隆突,其下方形成顯著的倒凹,需施行手術(shù)鏟除后再制作全口義齒。

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11、下頜舌骨嵴(mylohyoid ridges)

位于下頜骨后部的舌面,從第三磨牙斜向前磨牙區(qū),由寬變窄。下頜舌骨嵴表面覆蓋的粘膜較薄,下方有不同程度的倒凹。覆蓋此區(qū)的基托組織面應(yīng)適當(dāng)緩沖,以免產(chǎn)生壓痛。

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12、舌側(cè)翼緣區(qū)(lingual flange area)         

是與下頜全口義齒舌側(cè)基托接觸的部位,從前向后的解剖標(biāo)志包括舌系帶、舌下腺、下頜舌骨肌、舌腭肌、翼內(nèi)肌、咽上縮肌。舌側(cè)翼緣區(qū)后部是下頜全口義齒固位的重要部位。此區(qū)基托應(yīng)越過下頜舌骨嵴,有足夠的伸展。

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13、磨牙后墊(retromolar  pad)

是位于下頜最后磨牙牙槽嵴遠(yuǎn)端的黏膜軟墊,呈圓形、卵圓形或梨形,由疏松的結(jié)締組織構(gòu)成,下頜全口義齒后緣應(yīng)蓋過磨牙后墊1/2或全部。


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小     結(jié)


全口義齒的制作與無牙頜的解剖標(biāo)志有密切的關(guān)系。充分、合理應(yīng)用無牙頜各部位的解剖結(jié)構(gòu)特點(diǎn),是全口義齒修復(fù)成功的基礎(chǔ)。

來源于齒道

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