在支抗釘松動或失敗的病例，頭帽是一種替代選擇。低位牽引常用于治療II類生長發(fā)育期患者的矯治，也可以用于遠中移動上頜磨牙。在非拔牙病例，接觸上頜擁擠的間隙可以通過磨牙遠中移動獲得，而下頜擁擠通過排齊過程中的切牙唇向擴展獲得。下切牙鄰面去釉能改善排齊整平，但能提供的間隙不超過0.25-0.5mm的釉質厚度。下切牙的唇傾是II類非拔牙患者矯治的一項挑戰(zhàn)。

研究目的

調查在非生長期患者，用頭帽遠中移動上頜磨牙后下牙列的即刻變化。

研究方法

納入II類磨牙關系和牙列擁擠的16名患者（平均年齡，18.9±2.0歲），排除生長發(fā)育期患者，有缺牙或修復體的患者和拔牙矯治患者。這些患者拒絕應用支抗釘，同意用頭帽遠中移動上頜磨牙6-9個月以糾正磨牙關系。

患者用兩步治理方案進行治療，即先進行上頜磨牙遠中移動，再用0.018-inch托槽進行固定矯治。固定矯治排齊整平在獲得足夠磨牙遠中移動后開始。患者每天戴用低位牽引頭帽12-14小時，主要在夜間。頭帽的口內弓寬度調整到比上頜第一磨牙頰面管間距離大2mm，并與合平面平行。每側施加的力量在14-16oz。磨牙遠中移動進行到獲得I類磨牙關系。

獲得治療前（T0）和上頜磨牙遠中移動后即刻（T1）的CBCT。用CBCT生成的半頭側片（CG Cephs）和牙科模型評估牙弓的變化。在CG Cephs上繪制平行于頭位校準器的X軸和垂直于X軸并通過A點的Y軸。為評估磨牙遠移后的變化，獲取以下頭側數據：Y軸到上頜第一磨牙近中牙尖間的距離，X軸與上頜第一磨牙長軸的角度，IMPA值。下牙列的變化的測量指標包括：尖牙間寬度（ICW），前磨牙間距離（IPW），磨牙間距離（IMW）。上頜的IMW也被測量。

研究結果

戴用頭帽的平均時間為6.3個月。CG Cephs顯示，上頜第一磨牙遠中移動4.2 ± 1.6 mm，遠中傾斜9.7°± 6.1°，上頜IMW顯著增大1.3mm。下頜尖牙間、前磨牙間和磨牙間寬度在上頜磨牙后移后有增加，IMPA顯著下降。

討論

    下牙弓的變化可能可以用平衡理論解釋。上磨牙的遠中移動和伸長引起口腔環(huán)境的改變，舌的位置改變，來自舌的力量可能引起下牙弓的變化。另外，由于上牙弓擴寬，下牙列可能會通過牙尖吻合隨著上頜后牙位置發(fā)生改變。下牙弓的擴寬一定程度上可解除下前牙擁擠。根據研究結果，頭帽的運用和兩步非拔牙矯治方法可能成為不想應用骨支抗的年輕成人患者的一種選擇方案。

來源： Skywalker XY 浙一口腔正畸林軍